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[ 公司简介 ] 2001 年10月 ? 建立了半导体加工设备工厂 2002 年 2月 - 公司和学院一起进行[Completion]项目研发 2002 年 5月 ? 开发晶片干燥剂[Completion]: STG 型 IPA 增强干燥剂 2002 年 8月-  开发单晶片清洁剂[Process] 2002 年10月 ? 开发收缩盆型湿配置站[Process] 2003 年 5月 ?  获得韩国政府授予2003 年技术革新创新公司的称号 2003 年 4月 - IPA 增强干燥剂穿透操作 [Wafer Process] 2003 年 5月 ? 盆型湿配置站穿透[Wafer Process] 2003 年10月 ? 单型湿配置站穿透[OELD Process] [ 销售类别 ]   -   工具,器械类   >>   机械类 [ 公司概况 ] 注册日   2004/12/08 您在EC21的身份   卖家 经营模式   制造商 公司成立时间   2001 员工人数   6 - 10 年营业额   人民币 30万元 -- 50 万元 [ 联系方式 ] 公司名称 Advanced Alchemy Inc. 街道地址 Kyonggi-do Suwon-si, 521-1, Maetan3-dong, Paldal-gu, 442-803 Korea 电话号码 82 - 31 - 2336741 传真号码 82 - 31 - 2336742 公司网址 alchemyinc.cn.ec21.com 联系人 G.J. Kim / President         Copyright(c) Advanced Alchemy Inc. All Rights Reserved. Tel : 82-31-233-6741 Fax : 82-31-233-6742